填充陣列做高爾夫球，陣列不均勻

漠漠mo

       在球體上挖了一個(gè)小凹槽，做填充陣列后發(fā)現(xiàn)越往中間凹槽越深，求解這是什么原因造成的？需要修改哪些參數(shù)才能使得填充陣列在球體上的凹槽深度均勻？
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xueqingchao

沒有定義好，在截面里定義截面線法向與球面。

漠漠mo

xueqingchao 發(fā)表于 2017-9-30 10:27
沒有定義好，在截面里定義截面線法向與球面。

除去與陣列凹槽相對(duì)的面，畫好的圓在更換草繪界面時(shí)，在余下的兩個(gè)平面顯示的都是不在球體的中心圓點(diǎn)，這要怎么處理？

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漠漠mo

漠漠mo 發(fā)表于 2017-9-30 10:30
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) R. `( p, a- `, T+ ?, u不好意思啊，可能是我太笨了，試不出來