關于鍍鉻的幾個疑問

SY1100479

新人求教關于鍍鉻的幾個問題： 1.鍍硬鉻跟鍍黑鉻表面硬度上有什么區別嗎？鍍鉻后一般硬度可達到多少？
  ^0 p* U9 Z* D9 q 2.鍍層厚度一般在什么樣的水平，20um-50um嗎？
5 ]; X4 E* m1 _! Z2 O( t 3.除了鍍鉻，有沒有其他表面處理技術可以使材料表面拋光后亮度提升？目前材料S136磨過后粗糙度在200nm，3M砂紙拋光一小時后鏡面效果不佳。

wtangzz147

想要鏡面效果，直接亮光鍍鉻？

SY1100479

wtangzz147 發表于 2020-12-9 16:57
" N* R3 A' c2 q  U6 W! O想要鏡面效果，直接亮光鍍鉻？

0 u5 ?. B; V) {; ]6 p直接鍍的話我怕端面的平面度無法保證了，我們目前管控在5um以內，端面磨完之后是在2um左右，但是磨完粗糙度還是有點大，目前是計劃先磨再鍍鉻再拋光（拋光同時把平面度處理好）

18706204575

涉及高精度加工，不懂

大陸架

利用光學鏡頭行業的拋光液拋光試試。

大陸架

拋光液的主要產品可以按主要成分的不同分為以下幾大類：金剛石拋光液（多晶金剛石拋光液、單晶金剛石拋光液和納米金剛石拋光液）、氧化硅拋光液（即CMP拋光液）、氧化鈰拋光液、氧化鋁拋光液和碳化硅拋光液等幾類。 [2]
0 G, \$ O- F/ Q* x多晶金剛石拋光液
多晶金剛石拋光液以多晶金剛石微粉為主要成分，配合高分散性配方，可以在保持高切削率的同時不易對研磨材質產生劃傷。
主要應用于藍寶石襯底的研磨、LED芯片的背部減薄、光學晶體以及硬盤磁頭等的研磨和拋光。
7 M( ~2 S3 _: N* `" R- s氧化硅拋光液
" `) m7 A' M1 X# H( c氧化硅拋光液（CMP拋光液）是以高純硅粉為原料，經特殊工藝生產的一種高純度低金屬離子型拋光產品。
  P% X' j2 l0 \廣泛用于多種材料納米級的高平坦化拋光，如：硅晶圓片、鍺片、化合物半導體材料砷化鎵、磷化銦，精密光學器件、藍寶石片等的拋光加工。
# Q! `9 M/ P$ y1 J% e7 K' J氧化鈰拋光液
3 g/ p4 s  Q" G- o$ E* ?* x氧化鈰拋光液是以微米或亞微米級CeO2為磨料的氧化鈰研磨液，該研磨液具有分散性好、粒度細、粒度分布均勻、硬度適中等特點。
適用于高精密光學儀器，光學鏡頭，微晶玻璃基板，晶體表面、集成電路光掩模等方面的精密拋光。
氧化鋁和碳化硅拋光液
是以超細氧化鋁和碳化硅微粉為磨料的拋光液，主要成分是微米或亞微米級的磨料。
主要用于高精密光學儀器、硬盤基板、磁頭、陶瓷、光纖連接器等方面的研磨和拋光。

SY1100479

大陸架 發表于 2020-12-10 08:31
$ d. X/ E- Y" ^+ i: L拋光液的主要產品可以按主要成分的不同分為以下幾大類：金剛石拋光液（多晶金剛石拋光液、單晶金剛石拋光液 ...

0 L& g, }2 X! G! F3 m6 m老哥，氧化鈰適合拋光玻璃，我們有在用的粒度是0.5um的，金屬拋光不太適合；
另外，我詢問的是鍍鉻的知識
+ V' C7 N6 \/ W& Q" a* G( d

parkorliu

SY1100479 發表于 2020-12-9 17:56
$ D+ s8 O: C; S* \) u- \直接鍍的話我怕端面的平面度無法保證了，我們目前管控在5um以內，端面磨完之后是在2um左右，但是磨完粗糙 ...

9 Y7 e; @: N6 h' \# K( X' E可以鍍后加工的，我們水工行業的活塞桿就是這么干的。表面粗糙度＜Ra0.2，再高就沒試過了。
$ I) d7 G7 J+ s. i! G3 d9 O

wtangzz147

SY1100479 發表于 2020-12-9 17:56
% ]/ d$ k# U2 F4 _7 O直接鍍的話我怕端面的平面度無法保證了，我們目前管控在5um以內，端面磨完之后是在2um左右，但是磨完粗糙 ...

$ b1 B) {! `  B先磨再鍍感覺靠譜

遠祥

鍍黑鉻有時是起到裝飾作用，就像油標卡尺的刻度線，它就是黑鉻，這種粘付力不大，容易被擦掉，所以硬鉻鍍層粘付力才大。